小散100RMB求助通达信分时预警买卖点

　　 MA30:=EMA(CLOSE,30);
强弱:EMA(CLOSE,900);
STICKLINE((MA30>强弱),MA30,强弱,1,0),COLOR0000FF;
STICKLINE((MA30<强弱),MA30,强弱,1,0),COLOR00FF00;
H1:=MAX(DYNAINFO(3),DYNAINFO(5));
L1:=MIN(DYNAINFO(3),DYNAINFO(6));
P1:=H1-L1;
阻力:L1+P1*7/8,COLOR00DD00;
支撑:L1+P1*0.5/8,COLOR00DD00;
现价:CLOSE,COLORWHITE,LINETHICK1;
STICKLINE(CROSS(支撑,现价),支撑,阻力,1,0),COLORYELLOW;
DRAWTEXT(LONGCROSS(支撑,现价,2),支撑*1.001,★B),COLORYELLOW;{吸}
DRAWTEXT(LONGCROSS(现价,阻力,2),现价,★),COLORRED;{抛}; 为什么说上证指数上涨过高是政治阴谋?

　　 股市本来就是资本投机取巧的东西，不可能真正知道公司经营状况，一句话就上涨纯属有意炒作。 为什么连续涨停要停牌核查

　　 怕公司炒作，投机呀 通达信终极筹码穿透率多少指标算强庄股

　　 筹码穿透率就是股价上升时穿透筹码区能力。众所周知庄家吸筹充分时通常形成一个密集峰的窗口，筹码分布显示就是长长一个山峰，庄家要启动必然要上穿这一密集区，而上穿这一密集区所用成交量越少越证明庄家实力强。筹码穿透率就是根据成交量和当时价区密集度而设计，这个原理相当于一颗子弹穿透钢板越厚能量越大。 光刻机是芯片制造的关键，现在在中国有哪些企业能够研制光刻机

　　国内光刻机技术比较先进，已经量产的应该是上海微电子装备有限责任公司（简称SMEE)，已经实现90nm的量产，目前正在研究65nm的工艺。

　　其他的包括 合肥芯硕半导体有限公司、先腾光电科技有限公司、无锡影速半导体科技有限公司等一些企业，在光刻机上衣和有自己的成果。

　　但这些光刻机企业，目前还是在原来的道路上一步一步往前走，相信只要努力，未来也能达到很高的水平。但对于光刻机行业来说，他们的追赶速度虽然很快，但技术进步的速度也是很快。所以，他们只能持续在低端方面，占有一定的市场份额。

　　如果要进入高端市场，目前国内最先进的光刻机技术，应该是中科院光电技术研究所的技术成果。

　　2018年11月29日，新华社报道称，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收。据悉，该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。

　　也就是中国科学院光电技术研究所的这个成果，直接将中国光刻机技术向前推进好几代。当然，这个科研成果，距离完整实现量产，还有好几个关卡要过。

　　首先是光刻分辨力达到22纳米只是一次极限测试，属于单次曝光，还制造不了芯片。其次是，能够实验室制造芯片，还要实现量产，这又是一个关卡。但总的来说，已经有了“光刻分辨力达到22纳米”，那么距离成型机，已经没有那么遥远了。

　　 中国有大型国企研发制造光刻机吗

　　光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种：有用于生产芯片的光刻机；有用于封装的光刻机；还有用于LED制造领域的投影光刻机。用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板。

　　光刻机被称为“人类最精密复杂的机器”，该领域的龙头老大是荷兰ASML，并已经垄断了高端光刻机市场。荷兰ASML公司EUV光刻机售价高达1亿美元，而且只有ASML能够生产。

　　相比之下，中国最好的光刻机厂商上海微电子装备有限公司（SMEE）已经量产的光刻机中，性能最好的SSA600/20工艺只能达到90nm，相当于2004年上市的奔腾四CPU的水准。而国外的先进水平已经达到了7纳米，正因如此，国内晶圆厂所需的高端光刻机完全依赖进口。