光刻机是芯片制造的关键，现在在中国有哪些企业能够研制光刻机

　　国内光刻机技术比较先进，已经量产的应该是上海微电子装备有限责任公司（简称SMEE)，已经实现90nm的量产，目前正在研究65nm的工艺。

　　其他的包括 合肥芯硕半导体有限公司、先腾光电科技有限公司、无锡影速半导体科技有限公司等一些企业，在光刻机上衣和有自己的成果。

　　但这些光刻机企业，目前还是在原来的道路上一步一步往前走，相信只要努力，未来也能达到很高的水平。但对于光刻机行业来说，他们的追赶速度虽然很快，但技术进步的速度也是很快。所以，他们只能持续在低端方面，占有一定的市场份额。

　　如果要进入高端市场，目前国内最先进的光刻机技术，应该是中科院光电技术研究所的技术成果。

　　2018年11月29日，新华社报道称，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收。据悉，该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。

　　也就是中国科学院光电技术研究所的这个成果，直接将中国光刻机技术向前推进好几代。当然，这个科研成果，距离完整实现量产，还有好几个关卡要过。

　　首先是光刻分辨力达到22纳米只是一次极限测试，属于单次曝光，还制造不了芯片。其次是，能够实验室制造芯片，还要实现量产，这又是一个关卡。但总的来说，已经有了“光刻分辨力达到22纳米”，那么距离成型机，已经没有那么遥远了。

　　 中国的光刻机达到了世界先进水平，但为何生产高端芯片依然困难重重

　　 国产的芯片行业并非全面落后，但前路的确依旧艰辛，需要我们继续努力 听说国内中科院成都光电所在做光刻机，不知道有没有人用过

　　 有人用 中国打造全球首台SP光刻机，“中国芯”从此不再求人了吗

　　近年来，我国的发展速度快到令世人震惊，尤其是基建领域的科技含量，着实让不少海外专家望洋兴叹。但是大家可能不了解，我国的电子科技领域却还一直处于滞后状态！

　　因为我国的芯片生产能力不足，所以一直以来都要依靠进口欧美的电子芯片，而这些国家并没有因为我国需要大量进口他们的产品，而对中国表现出友好，反而对中国大量使用其芯片的企业大肆打压，导致我国一些企业出现危机。同时也让有关专家意识到如果不加强这方面的研发工作，我国的电子科技产业必将受到制约。所以近年来我国的科研人员，一直加强簿弱环节的开发与研究，目前已经有了一定的成效！
 

　　有业内人士介绍，我国的芯片一直都得靠进口的最终原因就在于，中国没有研制出制造芯片的核心技术——光刻机。但是不久前有报道称，目前中国已经自主研发制造出了SP光刻机，这种光刻机的性能极好。这就意味着，中国可以自己制造芯片了。只要能自己制造芯片，那么中国的电子科技就将逐渐转向自给自足，许多电子产品的配件，包括芯片都将出自中国制造！这个消息对国人来说无疑是一个爆炸性的新闻，也是一个大惊喜！给那些藐视中国的不友好国家一个大大的耳光！

　　认为：中国人口众多，人才济济，各领域都有很多后起之秀。世界上很多难于攻克的难题，在中国经过一段时间的努力与坚持都能一一被掌握，所以实现中国芯也是必然的结果，中国近年来不断推出的研发成果，极大的鼓舞了中国人的士气，同时也是让世界看重中国的有力见证！

　　 世界上最好的光刻机来自荷兰，为什么不是芯片发达的美国

　　世界上最顶端的光刻机来自荷兰阿斯麦的极紫外光光刻设备，差不多1.2亿美元一台，还垄断着世界高端光刻机市场，像现在最先进制程的7纳米，有的国家有钱也是买不到的。

　　那么为什么这种世界高科技光刻机公司不在美国，而在荷兰呢首先最重要的这种技术并不是美国搞不出来。

　　一，是荷兰阿斯麦公司是自世界各国大公司投资的公司，其中大股东就有（美国）的英特尔公司，韩国三星，还有我国的台积电。这样的的好处是集资容易，风险共担，重要的是有美国大股东控制着。

　　二，是荷兰阿斯麦生产的光刻设备，一些重要部件来自世界很多国家，比如最重要的光源技术来自美国的一家公司，镜头来自德国等，这里又有美国公司参与控制。

　　三，是觉得把这种高科技公司放在荷兰可以更好的垄断这个产业，不使技术外流，一是荷兰是美国的小弟不担心；二是美国国内有反垄断法，如果把这样的公司放美国国内可能会被析分成至少两家公司，这样人才技术就会不集中，研发起来慢，也可能浪费钱，造成产能过剩，而在荷兰就没有这种法律，这样就比较好控制。

　　四，是美国掌握着世界芯片最顶端的芯片设计技术，光刻机是为芯片服务，如果美国停止设计高端芯片，那么荷兰的高端光刻机毫无用处，产量也是被美国控制着，不过这种优势美国越来越掌握不住了。

　　总的来说世界最高端的光刻机虽然在荷兰，但是被美国控制着。

　　 光刻机是干什么用的，工作原理是什么

　　 一般来说是用激光。比如说要在玻璃上刻蚀图形，大致步骤为：清洗玻璃、干燥、在玻璃上涂覆光致抗蚀剂（即光刻胶有正性和负性之分）、干燥（固化）、曝光（方式很多，如激光直写、通过掩模板同时曝光等）、去胶（光刻胶曝光后性质发生光化学变化，去胶的方法也很多，如放在刻蚀剂中，用正性胶的话，被光照到的地方就会被溶解，没有光照到的地方光刻胶保留下来，到这里就已经在光刻胶上刻蚀出了所需图形）、清洗、转移（方法更多，如离子束轰击，光刻胶和玻璃同时被轰击，光刻胶被轰击完后，暴露出来的玻璃也被轰击，就把光刻胶上的图形转移到玻璃上）。实际上，光刻的方法和具体步骤相当复杂，对环境要求也非常高，以上只是基本步骤，让你大致了解而已。